Japan
各種薄膜フィルムPET、PVC、接着層
LCD、ディスプレイITO、ポリイミド
半導体、プロセス薄膜SiO2、SiN、Poly-Si、α-Si、PI、レジスト
基板保護膜HumiSeal、エレップコート
窒化ケイ素膜は誘電体などの材料として半導体産業で広く用いられています。測定は他の多くの誘導体と比べ非常に困難ですが、独自の窒化ケイ素分散モデルにより膜厚と光学特性を容易に測定できます。
導体の膜として使われるポリシリコンの測定事例。酸化膜、アモルファスシリコン、LTなどさまざまな膜厚の測定にも対応しています。
半導体のパターン形成に欠かせないレジスト。数百nm～数μｍのレジスト膜を測定できます。
LCD、多様のOLEDなどで使用されるITOなど、ディスプレイを構成する各層の膜厚を把握することは重要な利点となります。LCDではITO層に加え、ポリイミドと液晶層の測定が必要です。
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